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台积电5nm即将量产:苹果A14、华为麒麟1020等芯片妥了
  • 2020/3/18 13:29:22
  • 类型:原创
  • 来源:电脑报
  • 报纸编辑:电脑报
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【电脑报在线】7nm的荣光今年将被5nm取代,实际上,高通已经提前发布了基于5nm的第三代5G基带骁龙X60,不过选择由三星代工,而且要到明年才能商用上市。这边,台积电的5nm已然就绪。

台积电5nm即将量产


业内消息人士称,台积电将于4月启动5nm芯片量产,初期产能已经被客户全部包圆。


从现有资料判断,5nm产能的最大头由苹果占据,对象是用于秋季新iPhone的A14处理器,其余主要客户应该还有华为海思等。


以往,台积电的新制程总是由FPGA巨头赛灵思(Xilinx)首发,但赛灵思本周才推出、定于2021年出样的Versal Premium依然是7nm,不过倒是支持了PCIe 5.0。


另外,AMD的5nm要等明年的Zen 4首发,NVIDIA的Apere是否一步到位5nm还存在很大不确定性。


回到台积电5nm本身,它共有N5、N5P两种版本,N5比7nm工艺在性能提升15%,功耗下降30%,晶体密度增加80%。N5P比N5性能还要强7%,功耗再次下降15%。


据说A14的性能将媲美Intel 6核45瓦移动标压处理器,麒麟1020的性能相较于麒麟990提升多达50%。


Intel将推出5nm GAA工艺


Intel之前已经宣布在2021年推出7nm工艺,首发产品是数据中心使用的Ponte Vecchio加速卡。7nm之后的5nm工艺更加重要了,因为Intel在这个节点会放弃FinFET晶体管转向GAA晶体管。



随着制程工艺的升级,晶体管的制作也面临着困难,Intel最早在22nm节点上首发了FinFET工艺,当时叫做3D晶体管,就是将原本平面的晶体管变成立体的FinFET晶体管,提高了性能,降低了功耗。


FinFET晶体管随后也成为全球主要晶圆厂的选择,一直用到现在的7nm及5nm工艺。


Intel之前已经提到5nm工艺正在研发中,但没有公布详情,最新爆料称他们的5nm工艺会放弃FinFET晶体管,转向GAA环绕栅极晶体管。


GAA晶体管也有多种技术路线,之前三星提到他们的GAA工艺能够提升35%的性能、降低50%的功耗和45%的芯片面积,不过这是跟他们的7nm工艺相比的,而且是初期数据。


考虑到Intel在工艺技术上的实力,他们的GAA工艺性能提升应该会更明显。



如果能在5nm节点跟进GAA工艺,,因为GAA工艺上他们也是比较早跟进的。

至于5nm工艺的问世时间,目前还没明确的时间表,但Intel之前提到7nm之后工艺周期会回归以往的2年升级的节奏,那就是说最快2023年就能见到Intel的5nm工艺。


编辑/小呆

本文出自2020-03-16出版的《电脑报》2020年第10期 D.智能手机
(网站编辑:ChengJY)


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